ASML研發第二代EUV光刻機:性能提升70% 2025年問世

ASML研發第二代EUV光刻機:性能提升70% 2025年問世

半導體制造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻,成本能占到整個生産過程的1/3,光刻機也因此成爲最重要的半導體制造裝備,沒有之一。目前最先進的光刻機是荷蘭ASML公司生産的EUV光刻機,每台售價超過1億美元,而且供不應求。6wH顯卡之家

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ASML、IMEC联合研发第äoŒä»£EUV光刻æœo:3nmå·¥è‰o救星6wH顯卡之家

2019年,台積電、三星都會開始量産7nm EUV工藝,現有的EUV光刻機也差不多成熟了,雖然産量比起傳統的DUV光刻機還有所不如,不過已經能夠穩定量産了,7nm及明年的5nm節點上EUV光刻機都會是重點。6wH顯卡之家

EUV光刻機未來還能怎麽發展?2016ASML公司宣布斥資20億美元收購德國蔡司公司25%的股份,並投資數億美元合作研發新一代透鏡,而ASML這麽大手筆投資光學鏡頭公司就是爲了研發新一代EUV光刻機。6wH顯卡之家

日前韓媒報道稱,ASML公司正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有的光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA(高數值孔徑)透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套准精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。6wH顯卡之家

在這個問題上,ASML去年10月份就宣布與IMEC比利時微電子中心合作研發新一代EUV光刻機,目標是將NA0.33提升到0.5以上,而從光刻機的分辨率公式——光刻機分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA數字越大,光刻機分辨率越高,所以提高NA數值孔徑是下一代EUV光刻機的關鍵,畢竟現在EUV極紫外光已經提升過一次了。6wH顯卡之家

之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量産時間是2024年,不過最新報道稱下一代EUV光刻機是2025年量産,這個時間上台積電、三星都已經量産3nm工藝了,甚至開始進軍2nm、1nm節點了。6wH顯卡之家

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